真空管式爐的特點是在某一既定溫度下，可以預抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，主要應用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。院校實驗室和工礦企業(yè)實驗室，在進行高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等實驗時，會經(jīng)常用到真空管式爐，在進行這些實驗時需要注意以下幾點事項：
 

　　1、實驗樣品的安裝和支撐架的熱導率要低，以確保試驗樣品與安裝和支撐架間處于一種絕熱的狀態(tài)；
 

　　2、檢查高溫真空管式爐的試驗區(qū)內(nèi)有無油氣等易揮發(fā)性物質(zhì)和有氣味的物質(zhì)，這類物質(zhì)對試驗的影響必須預行確認；
 

　　3、冷爐使用時，由于管式爐膛是冷的，須吸熱，所以低溫段升溫速率不易過快，各溫度段的升溫速率差別不易太大，設置升溫速率時應充分考慮所燒結材料的物理化學性質(zhì)，以免出現(xiàn)噴料現(xiàn)象，污染爐管。
 

　　4、爐溫盡量不要超過額定溫度，以免損壞加熱元件及爐襯。
 

　　5、管式爐在溫度試驗測試結束以后，必須在試驗樣品冷卻到室溫后才能取出樣品，否則會對樣品產(chǎn)生不必要的應力，會對樣品產(chǎn)生不可逆轉的影響；
 

　　6、為保持管式爐溫區(qū)內(nèi)溫度一致，需要盡可能試驗環(huán)境溫度及設備動力電源的波動小，確保試驗樣品不產(chǎn)生熱輻射，不吸收熱量從而試驗區(qū)內(nèi)的溫度平穩(wěn)。